前段时间，中芯国际宣布实现14nm制程工艺生产线已经投入生产一事，让不少国人都为之兴奋，因为14nm制程工艺是芯片生产的一个拐点，中芯国际实现了14nm芯片制程工艺的生产也意味着其能够和全球芯片巨头们站在一个阵营上，虽然还存在差距，但日后实现追赶也不是问题。
目前，中芯国际14nm芯片制程工艺产能正处于爬坡阶段，预计3月份能生产4000篇，12月份能生产15000篇。然而，万万没想到的是，在国产芯片刚刚取得新的成就后，就传来了坏消息。大家都知道，光刻机是芯片制造生产过程中的关键设备，而荷兰ASLM光刻机是世界上最先进的光刻机，但是现在却无法为中芯国际提供设备，这也意味着国产芯片的进步之路或许又要被阻断了。
一时之间，国产芯片的发展又被打回原形，让不少人都为之担忧。不过，车到山前必有路，这点困难不算什么，只会推动中芯国际不断前进。而这段时间，中芯国际也没有让大众失望。虽然中芯国际现在和台积电、三星等巨头厂商还存在很大的差距，无法生产出性能很高的设备。但中芯国际依然一步一个脚印，现在其在现有基础上研发出N+1、N+2工艺。近期，中芯国际联席CEO梁孟松表示，和14nm制程工艺相比，N+1工艺性能提升了20%，功耗降低57%，逻辑面积缩小63%，SoC面积缩小55%。
技术的封锁激发了国产芯片企业内心的小宇宙，中芯国际通过自己的努力证明了自身的实力。如今，中芯国际在没有光刻机的状况下，还能够实现向7nm制程工艺的过度，也是一种实力。此前梁孟松透露称，2020年底会开始实验产能，预计得等到明年才能够实现7nm工艺产品的真正生产。
尽管7nm制程工艺芯片可以得到解决，但是未来5nm工艺以及更先进的3nm、2nm工艺芯片还在等着中芯国际，前路依然充满挑战，不知道未来中芯国际还能否一路披荆斩棘，早日追赶并反超国际顶尖芯片巨头？
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