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我们都知道，美国禁令之下芯片问题已经成为了当下科技圈最热的话题，这其中的原因除去芯片本身在科技发展中具有不可替代性之外，还因为我国半导体产业在这一块确实存在非常严重的“卡脖子”情况。
我们能造几纳米芯片？
就目前来看，当前国际一流的芯片大多采用7nm制程工艺制造，但是拥有7nm及以下工艺的目前全球却只有台积电和三星两家，而且美国技术的占比还非常高。比如根据台积电公布的官方数据，其14nm和7nm工艺美技术占比就在15%以上。
那么如果完全不用美国技术，我们能够造出多少纳米的芯片呢？根据倪光南院士的说法，国内能够独立自主制造28nm光刻机，同时也具备28nm乃至14nm工艺芯片制造能力。
不过这里需要说一下的是，目前我国最先进的国产光刻机还是90nm级别，至于最新的28nm国产光刻机，根据上海微电子的透露，预计两年内便可线下。
所以，目前的情况是，如果仅凭现有的技术，那么我们可以制造28nm甚至14nm芯片，但是如果要制造更高端的7nm，5nm芯片，那还是得依靠荷兰的EUV高端光刻机。
芯动科技正式官宣
但是现在情况不一样了，近日芯动科技正式官宣，国产7nm芯片打破外国垄断，就算不用EUV光刻机也能造出7nm芯片！
根据芯动科技在10月11日公布的消息，其已经完成全球首个基于中Xin国际 FinFET N+1 先进工艺的芯片流片和测试。值得注意的是，此次所有 IP 全自主国产，功能也是一次测试通过。
这个FinFET N+1工艺有什么特别的呢？根据业内大佬梁梦松在今年早些时候的透露，该工艺生产出来的芯片和台积电14nm芯片标准相比，性能提升20%，功耗降低57%，在功率和稳定性方面几乎与台积电7nm工艺等同。
而这也就意味着，就算是不用EUV光刻机，只用普通的光刻机，再搭配上FinFET N+1工艺就可以制造出等同于台积电的7nm芯片。
更重要的是，正如芯动科技所官宣的那样，此次所有IP全自主国产，完全不用担心卡脖子问题！
此外，目前该消息已经上了《珠海特区报》，并且获得高度赞誉：“芯动科技首个基于中芯国际先进工艺的芯片流片和测试成功，不仅意味着具有自主知识产权的‘国产芯’再次打破国外垄断，同时也说明‘国产版’的7nm芯片制造技术已经得到突破。”
芯片是人造的，不是神造的
关于芯片制造，比亚迪的老总王传福曾经喊出了这样一句口号：“芯片是人造的，不是神造的”。
事实上也的确如此。当芯片制造被卡脖子时，网络上铺天盖地的都是科普芯片制造有多么难，甚至于台积电创始人张忠谋在早些时候也曾说“即便大陆举国之力发展芯片制造，也难以取得成功”。
但是实际上，就拿光刻机来说，被誉为“人类工业皇冠上的明珠”，荷兰ASML公司总裁就直言：“给中国人图纸也造不出高端光刻机”，同时还有很多人说造光刻机比造原子弹还要难。
而事实上呢？造光刻机确实很难。
以荷兰EUV光刻机为例，不仅重量高达180吨，而且内部零件有8万多个，仅仅是安装、调试就要花一年时间。
更重要的是，它是一件集美国光源设备、日本的光学技术、德国的机械工艺、瑞典的轴承等等各国尖端工艺的精密设备，单凭一家企业确实很难在短时间内做出来。
但是别忘了，当初造原子弹的时候我们是什么样的一个科技基础，现在又是一个什么样的科技基础？当初一穷二白都能造出原子弹，现在已经能够造出90nm国产光刻机，甚至于两年内便能下线28nm光刻机，有这样的基础在还能造不出高端国产光刻机？
更何况，就在前一段时间，中科院院长白春礼已经亲自出面表示，将发挥“集中力量办大事”的精神，集全院之力攻克包括光刻机在内的技术难题。如此一来，还用担心光刻机的问题吗？
现在芯动科技的官宣，证明我们的国产7nm芯片已经打破国外垄断，接下来应当就是关于国产7nm工艺的大规模应用。
写在最后
还是那句话，芯片是人造的，不是神造的。别人都已经造出来了，证明了这件事的可行性，我们又有基础在，那么接下来的发展就是拼人力和物力。
不管别人怎么说，我们不可能因为一件事很难，就不去做了。相反，我们之所以会感觉一件事很难，恰恰正是因为不想做才会很难！期待中国半导体产业能够后来居上！
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