首页 > 科技 > 绕过光刻机?中国石墨烯技术突破,美科学家感叹:太快了

绕过光刻机?中国石墨烯技术突破,美科学家感叹:太快了

难以逾越的藩篱

在与西方科技封锁的较量中,高端光刻机设备一度成为国内科技企业难以逾越的藩篱,荷兰的ASML,是全球唯一一家能够制造EUV光刻机的厂商,但其设备含有近30%的美技术和零件,虽然数次示好国内市场,但始终没能获得出货许可。

在智能时代,芯片堪称是“大脑”,尤其是对为我国5G事业做出巨大贡献的华为等科技公司,其重要性无需赘言。解决芯片问题,就必须跨越光刻技术,为此,中科院率先士卒,白春礼院长表示:将光刻等卡脖子技术列入院里紧急的科研任务清单。

面对中科院以及国内芯片企业对光刻领域的重视程度,外媒却并不看好。在进博会之时,ASML曾表示,就算把光刻机的制造图纸拿给你们,也未必能造得出来。

就连太台积电创始人张忠谋也不止一次等泼冷水,光刻机的研发难度不亚于原子弹,上万个零配件和组装技术的限制,压上举国之力,也很难做到,科技只有脚踏实地,哪有弯道超车。

或许,国产芯片的发展卡在光刻机这一环节,正是西方技术封锁最想看到的结果。

中科院展示科研成果

然而,最近中科院宣布了一项重要的科研成果,让那些自以为是的人都大为惊叹,“不是说好的光刻机吗,为什么直接绕过了?”,美国科学家无奈地表示,这实在是太快了,中国继5G技术之后,又一领域将领先世界。

在日前举办的国际石墨烯创新大会上,中科院首次展示开发完成的8英寸石墨烯晶圆,无论是在质量上或是尺寸上,该成果都达到了最顶尖的水平。

或许很多人对石墨烯晶圆都比较陌生,甚至会问,这与光刻机有什么联系呢?

首先要清楚一点,石墨烯晶圆上碳基芯片的重要原材料,21世纪是碳时代,在这个领域,全球几乎都在寻求原材料方面的突破,因为这上制造碳基芯片的必经之路,而我国中科院是唯一一个完成这样成就的科研团队。

光刻机所制造的芯片属于硅基芯片,同等工艺,碳基芯片的性能至少超过硅基芯片10倍,更为关键的是,硅材料是上个世纪的产物,随着芯片工艺水平的提高,硅基芯片精准到了5nm、3nm,已经逼近了物理极限,也就是说,芯片的发展已经来到了重新选择半导体材料的阶段,中科院带来的8英寸石墨烯晶圆无疑是最优质的碳基芯片原材料

之所以让外媒如此吃惊,还有一个更重要的原因,那就是基于石墨烯的性能,在制造方面绕开了复杂的高端光刻技术,也可以理解为,对光刻技术的要求不像5nm硅基芯片那么高的要求。

写在最后

虽然光刻机很重要,但硅基芯片顶到了天花板也是不争的事实,如果我们继续以举国之力来钻研高端光刻技术,就算取得了成功,可届时,硅基芯片或许已经没有现在的不可或缺性了。

对碳基芯片的研发,相当于我们在新的时代已经开始奔跑了,从被动挨打到制定规则,中科院已经正式亮剑,因为一旦落后,那么所要付出的代价实在是太大了。

对此你怎么看?欢迎大家点赞留言转发

关注我,了解更多的科技力量


本文来自投稿,不代表本人立场,如若转载,请注明出处:http://www.souzhinan.com/kj/392815.html