近日，国内半导体设备龙头企业中微公司公布了登陆科创板的首份“答卷”，营收及利润同步增长。而同时其旗下刻蚀设备也迎来新突破，并成功挺进5nm产线。
芯片生产设备的更新升级，将进一步带动国产芯片快速发展。作为芯片生产的基础设备之一，中微自主研发5nm刻蚀机有望打破垄断壁垒，进一步加速芯片国产替代步伐。
蚀刻机逐步获得新突破
“刻蚀”和“光刻”一样，都是芯片生产必不可少的工序。可以说，光刻机是芯片制造的魂，蚀刻机是芯片制造的魄，要想制造高端芯片，这两者必须达到顶尖。
从工艺上来说，光刻机就是把图案印上去，然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案（或者没有图案）的部分，留下剩余的部分。刻蚀是紧密连接光刻的后续环节，两者相辅相成，不可分割。
截止到目前，全球刻蚀工艺主要以7nm为主，并逐渐向6.5nm设备市场进发，而中微企业首次突破产业壁垒，使我国成为全球第一个能够制造5nm刻蚀机的国家，遥遥领先于世界。根据中微公司最新披露，其5nm高端刻蚀机设备已经获得台积电的认可，并建立起批量订单交易。
当然，除了中微公司在半导体设备上的“突围”之外，中芯国际、北方华创、靖江先锋等半导体芯片公司也在5nm蚀刻机核心零部件领域取得先进成果，据靖江市科学技术协会消息，靖江先锋半导体5nm芯片工艺刻蚀核心零部件已经研发成功，即将投入生产。
可以说，半导体厂商的逐步发力，为我国芯片设备长足发展提供了有利条件，进一步打破国外垄断壁垒，芯片国产替代步伐进一步加速。
芯片国产替代指日可待
值得一提的是，我国不仅在蚀刻工艺环节获得新突破，在光刻领域我国也不断交出满意答案，带动国产芯片迅速崛起。
作为国内芯片龙头企业，中芯国际已经成功引进荷兰ASML光刻机设备，为国产芯片扩能奠定了良好基础。
而近日，又一利好消息传来，被誉为“半导体行业里明珠”的光刻机再创“国之辉煌”。据多家媒体联合报道，福建安芯半导体公司成功出货一台光刻机，价值两千万。根据进一步了解，此台光刻机国产化程度已经达到60%以上，将被送至我国科研机构用于CMOS芯片领域的研发。
可以说，突破光刻机困局，才真正打响国产芯片的“突围之战”，国产芯片自主化趋势越来越明显。
前不久，华为第一款“纯国产芯片”麒麟710A的问世，打破了国内芯片对外国及台积电芯片的依赖，是我国芯片转向自主化发展的真正开始。而此款芯片是由中芯国际14nm工艺生产制程，两大巨头的联合为国产芯片发展注入一剂“强心剂”，国产芯片未来可期。
作为国内芯片龙头企业，中芯国际持续发力，不仅实现14nm的量产，还进一步突破7nm生产技术防线，实现N+1、N+2工艺的新突破，对于打破国产芯片生产困局有重要作用。目前，N+1工艺已经进入客户导入阶段。
此外，紫光展锐的发展势头也不容小觑，凭借其虎贲系列芯片的成功获得了海内外的广泛认可，成为国产芯片势力中新的增长极。
不可置否，我国芯片行业起步较晚，受困于国外技术封锁和垄断壁垒的存在，芯片技术发展缓慢。但是，随着5G时代的到来，我国芯片发展迎来180度大转弯，半导体生产设备及芯片技术的进步，为芯片的国产替代提供了坚实的基础。实现弯道超车，不是没有可能。
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