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为了实现全面屏效果，不同厂商有不同的解决方案。现在使用最多的是水滴屏，升降摄像头以及挖孔屏。在使用挖孔屏的设计方案里，常见的是把摄像头放置在屏幕顶部圆角处，或者像三星 Note10 那样放在屏幕顶部中间。
LetsGoDigital 最近就在世界知识产权组织里发现了一份中兴最新的外观专利，这份今年 4 月份提交的专利显示，虽然也是挖孔屏设计，但挖孔位置却有了新变化。从设计草图来看，挖孔位置在屏幕顶部靠右处，单从图纸看显得十分突兀。
但根据专利文件的描述，打孔位置选择这里是因为在屏幕亮屏时可以隐藏在状态栏里。在 LetsGoDigital 所作的渲染图下就能更直观体现这种设计的优点。由于使用的是屏下开孔技术，而不是屏下摄像头，在实际中应该是会有一个摄像头「小黑点」。
中兴的这个设计也算是在现有挖孔屏技术上做的一些设计创新，但要想获得真正的全面屏效果，看来还是要采用升降结构摄像头，或者是屏下摄像头技术。
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