前言：最近的好消息真的是一个接一个，先是华为推出了全部开源的鸿蒙系统要和安卓一较高下，现在光刻机方面也迎来了好消息。近日，上海微电子集团已经证实，成功研发出了我国第一款28nm的光刻机设备，有望将在2021年年初交付使用。这一举将会缓解国产芯片被卡脖子的尴尬局面。
禁限日期越来越近，先是美光存储宣布断供华为，其后三家韩国知名的企业三星、LG和SK海力士正式宣布将按照美国要求执行对华为限售的禁令。这也就意味着，9月15日之后，华为不但无法购买三星和海力士的芯片，同时也将不能再购买LG生产的OLED屏幕面板。
这边不差钱的中国华为想买买不了，那边缺钱的韩国三巨头却想卖不敢卖，这不得不让人感慨。华为为了冲破芯片禁令带来的负面影响，在除硬件领域之外的领域都开始发力，比如华为在5G的发展上，显然美国的禁令没有起到成效，其全球市场份额仍然稳居第一。
当然，华为这边也有一定的心理准备，不但早就开始对外宣布麒麟芯片可能成为绝版，而且还将明年的手机出货目标下调到了5000万部。
幸运的是，在这样危急的时刻，国产光刻机传出了好消息，上海微电子不但成功研制出了28nm的光刻机设备，还让我国彻底摆脱了一直以来对荷兰AMSL光刻机的依赖。
提起上海微电子，可能很多人还不熟悉，但是这家国企就像一匹黑马，迅速地崛起。它在没有自己成熟科研团队和没有成熟技术经验可以借鉴的情况下，拿下了光刻技术3200多项专利。上海微电子之所以可以拿下国内市场80%的订单，是因为其掌握着先进的封装光刻机技术以及高亮度LED光刻等智能设备技术。据悉，28nm光刻机的出货量，每年可以保持在50台左右。
不久之前，上海微电子的光刻机设备还处在仅支持90nm制程工艺的阶段，现如今却突然迈入了28nm的水平，这已经不是单级跳跃式发展了，而是近乎光速在发展了。
很多人或许还不太能理解这次28nm光刻机出现的意义，虽然它和荷兰顶尖的极紫外5nm光刻机存在很大的差距。但是，28nm现在已经能够达到国内大部分芯片制程工艺的要求，而且28nm在有些设备当中还属于比较先进的工艺。比如28nm对于OLED屏幕上所需的IC驱动芯片而言，就是比较先进的工艺，通常情况下的屏幕驱动芯片的制程工艺要求是在60nm或45nm之间。那么华为最担心的无芯可用局面也就可以迎刃而解了，即使最坏的情况出现，其也有中低端芯片可以使用，这对华为而言，无疑是一个意外的惊喜。
当然，华为技术独立只是时间问题，麒麟芯片也迟早会回归华为手机。虽然现在的困境很多，但是我国一直也没有停下脚步。不久前我国还掌握了光刻机双工作台的核心技术，这也就打破了欧美光刻技术的垄断。
值得一提的是，最近中科院长春光机所经过长达7年研发出的1.5米扫描干涉场曝光系统，也将打破国外技术的封锁，这项技术不光可以应用在光刻机技术方面，还可以应用在可控核聚变，高能激光等多个领域。所有技术都是从无到有，从有到一点点发生突破的，相信总有一天我国的芯片制造业会拿出属于我们自己的骄傲答卷。
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