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中科院删除5nm光刻机新闻,国产光刻机到底落后多少年?

近期,华为余承东就宣布麒麟芯片停产的消息,起因是受美国条例的限制,很多使用美国技术的芯片代工厂商被迫取消与华为合作,这导致华为的麒麟芯片无人代工,最终只能暂时面临停产,此事在国内也引起很大反响,也暴露我国在半导体行业的落后。

就在国人忧心忡忡的时候,一篇关于中科院研发出新型5nm超高精度光刻机的文章爆红网络,不少自媒体纷纷发文表示国产芯片有救了,可在不久之后,中科院就将这篇有关5nm新闻删除,对于此事,官方也没有给出任何回应。

其实该技术只是在测试阶段,想真正替代光刻机还有很长的路要走,在几十年前,我国就对光刻机的重要性和战略性进行过确认,最后便开始我国光刻机的研发计划,但由于我国科技工业落后,在1977年才研发出GK-3型接触式光刻机,与当时的1:1投影光刻机和分步投影光刻机存在不小的差距。

而ASML的崛起改变了现有光刻机的格局,不仅赶超了尼康、佳能这两大光刻机巨头,还抢占了不少市场份额,而我国光刻机本来就与西方存在一些差距,而ASML的出现拉大我国光刻机的距离,再加上政策扶持减少,和西方技术封锁,导致国产光刻机面临困境,不过真正导致国产光刻机破产还是思想上的问题,在“造不如买”的思想转变下,很多人选择买现成光刻机,这让我国光刻机发展被迫暂停。

好在我国又开启对光刻机的研制计划,上海微电子公司在2007年推出首台90nm工艺投影光刻机,可随之不久,西方就对我国实施元器件禁运,导致光刻机部分元器件得不到补充,最后无法进行大规模量产。

我国光刻机研发之所以困难重重,除了西方国家多方限制之外,最主要是思想上出现了问题,当“造不如买”成为主流,我们就已经动摇了自研技术的决心,所以在任何领域,我们都不能受其影响,一旦我们脑海里出现“不可能”“做不到”时就已经失败了。

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