众所周知，芯片的存在，对于一个科技企业来说，是至关重要的，不管是智能手机产品，还是5G通信设备等，都是离不开芯片的，然而我国一直以来都非常依赖于外国进口芯片，也就是说，在意识到芯片重要性之前，我国并没有很强的自主芯片研发技术。
而现在我国芯片企业疯狂崛起，不仅掌握了大量的芯片设计技术，还成为了世界顶流，但是一个问题被解决之后总有新的问题出现，那就是芯片的制造工艺依旧受限于西方国家，从美国要求使用其技术的台积电断供华为就能够看出来，芯片制造的突破口就是光刻机！
说得通俗一点，没有光刻机的芯片制造就是一盘散沙！因此光刻机也被称为是人类科技的桂冠，而目前光刻机技术又被荷兰ASML公司所垄断了，中芯国际长达三年的订单一直被忽视没有发货，所以突破光刻机技术变得无比艰难。
可这些西方国家没有想到的是，我国竟然打破了他们的垄断，咬紧牙关全力以赴的实现了，前段时间，上海微电子向外宣布，已经成功自研了28纳米光刻机，虽然和ASML的EUV极紫光刻机还有很大的差距，但这已经是质的飞跃了。
更重要的是，中科院再立大功，成功实现了5纳米光刻机关键技术的攻克，这是一条和ASML公司完全不同的新型技术线路，5纳米高精度激光光刻机的研发，是利用三层叠堆薄膜结构，再通过双激光束交叠实现的。
虽然说要达到ASML的高度还需要很大的时间，还有很多的难关克服，现在能够以最短的时间做到控制能量密度以及波长，在线宽上将宽度精确到5纳米已经很不错了，相信在所有芯片企业的共同努力下，能够完全的打破封锁，打造专属于中国的技术。
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